반도체나 디스플레이, 메모리, 광학소자 등을 제작하는데 사용되는 나노 패터닝 공정의 한계를 극복하는 기술이 개발됐다.
ETRI(한국전자통신연구원)는 10㎚(나노미터) 이하 미세 패터닝이 가능한 나노 금형을 값싸게 대량 복제할 수 있는 원천 소재를 개발했다고 24일 밝혔다. 현재 주로 사용되는 나노 패터닝 공정은 극자외선(EUV)이나 액침노광을 이용하는 것으로 22㎚가 한계였다. 게다가 극자외선 장비는 대당 가격이 3000만 달러 이상인 데다 고전력 소요와 효율 저하 등의 단점이 있었다.
ETRI 연구팀은 KIST(한국과학기술연구원)가 개발한 ‘하프피치(half-pitch) 8㎚ 블록공중합체 마스터 나노 금형’을 이용하여 미세 패턴을 형성하는 데 성공했다.
연구팀의 이봉구 박사는 “10㎚ 이하 극나노 금형 복제 기술은 현재 세계적으로 미국, 일본 등 소수 국가만이 보유하고 있는 고난도 기술”이라며 “이번 개발로 우리나라는 나노기술 강국의 면모를 세계에 각인시킬 것”이라고 밝혔다.
ETRI는 이번에 개발한 기술을 바탕으로 디스플레이용 나노 패턴 필름 개발과 롤투롤(Roll to Roll) 대면적 편광 필름 개발, 유연 전자소자 개발 등에 활용할 계획이다.
이재형 기자 1800916@cctoday.co.kr
ETRI(한국전자통신연구원)는 10㎚(나노미터) 이하 미세 패터닝이 가능한 나노 금형을 값싸게 대량 복제할 수 있는 원천 소재를 개발했다고 24일 밝혔다. 현재 주로 사용되는 나노 패터닝 공정은 극자외선(EUV)이나 액침노광을 이용하는 것으로 22㎚가 한계였다. 게다가 극자외선 장비는 대당 가격이 3000만 달러 이상인 데다 고전력 소요와 효율 저하 등의 단점이 있었다.
ETRI 연구팀은 KIST(한국과학기술연구원)가 개발한 ‘하프피치(half-pitch) 8㎚ 블록공중합체 마스터 나노 금형’을 이용하여 미세 패턴을 형성하는 데 성공했다.
연구팀의 이봉구 박사는 “10㎚ 이하 극나노 금형 복제 기술은 현재 세계적으로 미국, 일본 등 소수 국가만이 보유하고 있는 고난도 기술”이라며 “이번 개발로 우리나라는 나노기술 강국의 면모를 세계에 각인시킬 것”이라고 밝혔다.
ETRI는 이번에 개발한 기술을 바탕으로 디스플레이용 나노 패턴 필름 개발과 롤투롤(Roll to Roll) 대면적 편광 필름 개발, 유연 전자소자 개발 등에 활용할 계획이다.
이재형 기자 1800916@cctoday.co.kr